设备简介
在柔性电子器件的制备过程中,功能层薄膜的后处理会涉及到很多复杂的后处理过程,如热退火、UV光照等。而每种后处理过程都需要借助单独的设备或装置来完成,不仅增加了人工操作的步骤,同时也给器件制备带来很多不确定的影响因素。
AP300自动后处理平台具备多种后处理工艺,可以灵活设计后处理方案,系统自动按照工序设定依次完成各种后处理过程,既降低人工干预频次,也确保后处理工艺的一致性,具有操作简单、可靠性强、自动化程度高等特点。
· 专门为柔性电子器件制备的后处理过程而设计
技术参数
机械系统
最 大基底:210mm*148mm,基底厚度<10mm
温湿度要求:15-40℃(5-80RH无冷凝)
加热模块范围:室温~200℃
基板散热方式:风冷
紫外模块1:波长254nm,功率6w*4,带遮光
紫外模块2:波长365nm,功率6w*4,带遮光
设备尺寸(长*宽*高):935mm*490mm*280mm
设备重量:35Kg
硬件系统
I/O接口
网络接口:wifi,连接路由器
电源输入:220VAC, 50Hz
最 大功率:650W
软件系统
后处理平台软件参数
支持设备配网和调试
支持后处理参数设置
支持自定义工艺流程
支持显示设备运行状态
最 大功率:650W
PC系统要求:Windows 10企业/专业版64位操作系统,Intel Core i5 CPU 2GHz,硬盘10GB 以上空闲,最低8GB内存,无线或有线网卡
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